半导体革命:佳能纳米压印技术将成为行业新宠

   发布时间:2023-12-25 15:10

【媒体界】12月25日消息,佳能高管在接受采访时透露,他们独家拥有的纳米压印技术可制造出线宽仅为2纳米的电路产品,堪称全球独一无二。

佳能半导体机器业务部长岩本和德介绍说,纳米压印技术的核心原理是将带有半导体电路图案的掩膜压印到硅晶圆上,仅需一次压印便能形成电路。他还指出,通过改进掩膜,甚至可以生产线宽为2纳米的电路产品。

这一技术不仅可以将客户的实际生产成本降低到传统光刻设备的一半,还因纳米压印设备的小型化,使得其更容易引进和应用于研发等领域。

岩本和德还在被问及是否存在其他竞争对手时表示,全球范围内,佳能是唯一从事半导体光刻领域的纳米压印设备制造商,该领域的准入门槛相当高。

自2017年左右起,佳能便与铠侠和大日本印刷等三家公司合作开发这一技术。岩本和德表示,目前纳米压印技术在量产方面已经取得了实质性进展,可以考虑面向客户销售。

与此同时,佳能还透露,已经收到来自半导体制造商、大学和研究机构等多方面的咨询,因为相对于引入昂贵的EUV光刻设备,纳米压印技术作为一种替代方案备受期待。

 
 
更多>同类内容
全站最新
热门内容
本栏最新