近日，有专家指出，我国芯片产业面临的最大瓶颈并非光刻机，而是光刻胶这一关键材料。光刻胶作为半导体制造的核心组成部分，其重要性在芯片生产过程中不言而喻。
光刻胶的作用在于在硅片上精确构建电路图案，是连接光刻机与芯片电路的桥梁。通过光刻机的曝光处理，预设的电路设计得以精确转印至硅片表面，进而通过化学蚀刻形成芯片电路。然而，目前全球光刻胶市场高度集中，超过80%的份额由美国和日本企业掌控。
鉴于这种市场垄断可能带来的供应风险，加速光刻胶的国产替代显得尤为重要。特别是在日本加强对我国半导体设备限制的背景下，光刻胶的国产化进程更加紧迫。特别是高端ARF光刻胶，目前我国几乎完全依赖进口。
回顾半导体产业的国产替代历程，多个国内企业已成功打破国外垄断，股价也随之大涨。此次光刻胶的国产替代，市场反应预计将更加热烈。
经过深入调研，我们发现了四家具有核心竞争力的光刻胶企业。其中，一家公司已完成多款光刻胶的研发并获得专利授权，特别是其高端ARF光刻胶，成功打破了日本的垄断地位，成为国内首屈一指的企业。该公司股价也正处于突破阶段。
还有一家公司与光刻机巨头阿斯麦长期合作，以及一家光刻胶材料龙头，拥有光刻胶配套试剂循环再生产品。另外一家公司则正在研发KrF和ARF光刻胶。
需要注意的是，本文内容仅代表个人观点，不构成任何投资建议。股市有风险，投资需谨慎。
